模样测定激光机器显微系统化 VK-X3000 编

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造型侧量激光束显微设计 VK-X3000 系列表

搭载白光干涉功能
纳米/微米/毫米一台即可完成测量

超出脉冲激光高倍显微镜的上限，以三种扫锚措施面对
  • 一台即可测量纳米/ 微米/ 毫米
  • 一台即可了解希望获取的信息
  • 最高分辨率0.01 nm

VK-X3000 系列 - 形状测量激光显微系统

分为了什么是四大扫面机手段，用到激光机器共专注、白光灯涉及、专注变迁等五种不相同的扫面机基本原理，高系数和低系数，空间图形、凸凹不平外层的细微的光滑度，或弧面体，乳白色体等。VK享用防范多样仿品的检测方法效率（从 1 nm 到 50 mm），納米/2um/亳米一种完整检测方法。

产品特性

Basic Characteristics

观察

从光学仪器体视显微镜到SEM教育领域台机器归属于
  • 42 至 28800 倍
  • 无需对焦
  • 适用于多种样品

测量

非接觸同时扫描拍摄造型
  • 不会损伤目标物
  • 纳米级别也可准确测量
  • 透明体和坡度大的目标物也可测量

分析

机会理解的的表面“距离”明了
  • 定量化微小形状
  • 轻松比较多个样品
  • 粗糙度分析

三重扫描方式
解决“难以测量”的难题

白光干涉 / 激光共聚焦 / 聚焦变化

可可根据检样零部件的资料、图型和衡量范围之内，选取离子束共专注、白光灯干涉仪、专注变等三个各种不同的扫描机机制，去高精确度衡量。

最高分辨率0.01 nm

即使是纳米级的微小形状变化也能准确测量。
此外，如镜面体、透明体等测量难度高的材料也能实现高速、高精度、大范围的测量。

连高度差较大的凹凸处
和大范围区域也能测量

最大扫描区域50 mm见方。
凹凸不平或手掌大小的物体也能整体扫描。
只需一台设备，即可同时掌握整体形状和局部形状。

精确测量高倍率和低倍率。平面和凹凸面。

适宜于各种各样要求物的測量效果